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?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現(xiàn)全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件，從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比，對準精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用的蕞苛刻要求，同時與競爭系統(tǒng)相比，擁有成本降低了30％。

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。

EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng) 特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設(shè)計上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。